About Lab.
ALD 적용 신규 precursor 개발, High Purity Aluminum 소재 개발
전력 반도체 SiC, GaN 기판의 특성 연구
About Prof.
프로필
- 2023.03 ~ 현재 인하대학교 공학 대학원 재료화학 공학과 초빙 교수
- 2021.01 ~ 현재 서진 일렉트론 부사장(사업 개발 총괄)
- 2015.02 ~ 2020.03 Air Liquide사 전략 고객 지원팀, 전무
- 2013.07 ~ 2014.10 Lam Research사 전략 고객 지원팀 ,전무
- 2009.07 ~ 2013.05 Mattson Technology사 아시아 지역 기술 총괄 부사장
- 2002.09 ~ 2006.06 DB 하이텍사 제품 기술 및 기술 마케팅 팀장, 상무
0.18um, 0.13um,90 nm process integration 팀장 - 2000.03 ~ 2002.08 삼성전자 System –LSI, Foundry 제품개발팀/기술 마케팅팀 그룹장
0.5um, 0.35um,0.25um, 0.18um, 0.13um logic 공정 개발 - 1985.01 ~ 2000.03 삼성전자 반도체 연구소, 그룹장
DRAM Process integration. Thin Film process 팀
교육
- 1993. 3 ~ 1997.8 인하대학교 금속 공학 박사 (전자 재료 전공)
- 1990 .9 ~ 1993.2 인하대학교 금속공학 석사 (반도체재료 전공)
- 1981. 3 ~ 1985.2 인하대학교 금속공학 학사
주요 연구분야
- ALD 적용 신규 precursor 개발, High Purity Aluminum 소재 개발
- 전력 반도체 SiC, GaN 기판의 특성 연구
수상
- 1997 삼성 전자 반도체 부문 최우수 논문상 수상